磁控反应溅射氧流量变化对TiO2薄膜影响的实验研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 常学森; 巴德纯; 闻立时; 刘坤 |
| 刊名 | 真空与低温
 |
| 出版日期 | 2007 |
| 卷号 | 13.0期号:003页码:163-167 |
| 关键词 | 纳米二氧化钛 薄膜 光电效应 亲水性 磁控溅射 |
| ISSN号 | 1006-7086 |
| 其他题名 | EXPERIMENT RESEARCH OF OXYGEN FLUX EFFECT ON TITANIUM DIOXIDE FILMS BY REACTIVE MAGBETRON SPUTTERING |
| 英文摘要 | 通过中频交流磁控溅射设备，利用金属Ti靶制备出了有一定厚度的、质量较好的TiO2薄膜，TiO2薄膜被沉积在玻璃基底上。利用各种分析测试手段对其性能进行了测试，初步探讨了不同氧流量对TiO2薄膜的影响。实验表明，不同氧流量下制备的TiO2薄膜的亲水特性发生了变化。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:3083754 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/145085]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 常学森,巴德纯,闻立时,等. 磁控反应溅射氧流量变化对TiO2薄膜影响的实验研究[J]. 真空与低温,2007,13.0(003):163-167. |
| APA | 常学森,巴德纯,闻立时,&刘坤.(2007).磁控反应溅射氧流量变化对TiO2薄膜影响的实验研究.真空与低温,13.0(003),163-167. |
| MLA | 常学森,et al."磁控反应溅射氧流量变化对TiO2薄膜影响的实验研究".真空与低温 13.0.003(2007):163-167. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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