负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 黄美东; 林国强; 董闯; 孙超; 蒋长荣; 黄荣芳; 闻立时 |
| 刊名 | 金属热处理
 |
| 出版日期 | 2001 |
| 卷号 | 26.0期号:007页码:17-20 |
| 关键词 | 电弧离子镀 负偏压 多层薄膜 氮化钛 碳氮化钛 |
| ISSN号 | 0254-6051 |
| 英文摘要 | 用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成Ti/TiCN多层薄膜，在其他参数不变的情况下只改变负偏压，着重考察不同负偏压下薄膜的沉积深度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等，研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作用。结果表明，负偏压影响沉积温度，负偏压值越大，温度越高；负偏压值增大，表面形貌中的大颗粒数量减少，薄膜质量得到改善；负偏压在－300V左右时，膜基结合强度与硬度出现对应最佳性能点的峰值。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:674485 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/147868]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄美东,林国强,董闯,等. 负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用[J]. 金属热处理,2001,26.0(007):17-20. |
| APA | 黄美东.,林国强.,董闯.,孙超.,蒋长荣.,...&闻立时.(2001).负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用.金属热处理,26.0(007),17-20. |
| MLA | 黄美东,et al."负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用".金属热处理 26.0.007(2001):17-20. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。