ArF准分子激光晶化非晶硅薄膜微结构研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 黄香平1; 崔连武2; 肖金泉2; 闻火3; 闻立时1 |
| 刊名 | 世界科技研究与发展
 |
| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 000期号:004页码:417-419,426 |
| 关键词 | 准分子激光 激光能量 结晶度 |
| ISSN号 | 1006-6055 |
| 其他题名 | Researches on the Microstructure of a-Si Film Crystallized by ArF Excimer Laser |
| 英文摘要 | 利用ArF准分子激光对非晶硅薄膜的表层进行晶化后，采用拉曼光谱（Raman）、透射电镜（TEM）、场发射扫描电子显微镜（FE—SEM）等实验方法研究不同激光能量密度下晶化层硅薄膜微结构变化。实验结果表明：随激光能量密度的增大，薄膜结晶度增大，晶化层厚度加厚；晶粒尺寸则是先增大，直到激光能量密度增大到210mJ／cm^2后，晶粒尺寸开始减小并且均匀性逐渐变差。最佳的激光能量密度范围为120～180mJ／cm^2，这时薄膜表面晶化层晶粒比较均匀致密，薄膜质量较好。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:3985866 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/148116]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 1.中南大学 2.中国科学院金属研究所 3.武汉华硅太阳能科技有限责任公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄香平,崔连武,肖金泉,等. ArF准分子激光晶化非晶硅薄膜微结构研究[J]. 世界科技研究与发展,2010,000(004):417-419,426. |
| APA | 黄香平,崔连武,肖金泉,闻火,&闻立时.(2010).ArF准分子激光晶化非晶硅薄膜微结构研究.世界科技研究与发展,000(004),417-419,426. |
| MLA | 黄香平,et al."ArF准分子激光晶化非晶硅薄膜微结构研究".世界科技研究与发展 000.004(2010):417-419,426. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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