含氟水溶液中电化学刻蚀氟化WO3薄膜电极增强可见光光电化学性能
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李文; 冷文华; 牛振江; 李想; 费会; 张鉴清; 曹楚南 |
| 刊名 | 物理化学学报
 |
| 出版日期 | 2009 |
| 卷号 | 000期号:012页码:2427-2432 |
| 关键词 | WO3 电化学刻蚀 氟化 光电化学 可见光 |
| ISSN号 | 1000-6818 |
| 其他题名 | Enhanced Photoelectrochemical Performance of WO3 Film Electrode under Visible Light by Electrochemical Etching Fluorination in Aqueous Solutions Containing Fluorine |
| 英文摘要 | 报道了在含氟的酸性水溶液中,对电沉积制备的WO3薄膜电极进行电化学刻蚀,并采用光电化学、扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、光电子能谱（XPS）、紫外-可见漫反射光谱、光致发光（PL）等方法对电极进行了表征.结果表明,刻蚀使电极比表面积增大,质量减少,重要的是可使电极表面状态发生变化.在相同催化剂质量和比表面积的条件下,这种变化显著提高了WO3薄膜电极在可见光和紫外-可见光照下的光电转换性能.机理研究表明,电极光电化学性能提高可归因于刻蚀使电极表面发生氟化,光生载流子表面复合中心数目减少,平带电位负移.刻蚀对电极的吸光性质和晶体结构等未检测出明显变化.氟化电极在酸性中具有良好的光电化学稳定性. |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:3777719 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/148212]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李文,冷文华,牛振江,等. 含氟水溶液中电化学刻蚀氟化WO3薄膜电极增强可见光光电化学性能[J]. 物理化学学报,2009,000(012):2427-2432. |
| APA | 李文.,冷文华.,牛振江.,李想.,费会.,...&曹楚南.(2009).含氟水溶液中电化学刻蚀氟化WO3薄膜电极增强可见光光电化学性能.物理化学学报,000(012),2427-2432. |
| MLA | 李文,et al."含氟水溶液中电化学刻蚀氟化WO3薄膜电极增强可见光光电化学性能".物理化学学报 000.012(2009):2427-2432. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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