有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王金忠1; 赵岩2; 张彩碚3; 王明光3 |
| 刊名 | 沈阳建筑工程学院学报：自然科学版
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| 出版日期 | 2002 |
| 卷号 | 18.0期号:003页码:197-200 |
| 关键词 | 有序介孔SiO2 低表面活性剂 模板剂 分子自组装 |
| ISSN号 | 1671-2021 |
| 英文摘要 | 论述了碱性介质条件下，采用低表面活性剂浓度，在表面活性剂与硅源的魔鬼洋比仅为0.06：1的条件下，利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚焦体互作用，在溶液中形成分子自组装体，进而形成有序介孔SiO2材料，并对其进行HRTEM分析和小角度XRD分析，以及红外可见光谱FT-IR分析，研究表明：在低表面活性剂下，经分子自组装可形成排列有序的六方结构，水势条件下使分子的作用增强，介孔骨架中硅原子的聚集度提高，实验说明铝原子的引入了取代部分硅原子导致晶格增大，并可使有序介孔结构保持完好。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:1158659 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/148665]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 1.沈阳建筑大学 2.中国科学院金属研究所 3.东北大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王金忠,赵岩,张彩碚,等. 有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征[J]. 沈阳建筑工程学院学报：自然科学版,2002,18.0(003):197-200. |
| APA | 王金忠,赵岩,张彩碚,&王明光.(2002).有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征.沈阳建筑工程学院学报：自然科学版,18.0(003),197-200. |
| MLA | 王金忠,et al."有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征".沈阳建筑工程学院学报：自然科学版 18.0.003(2002):197-200. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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