掺杂浓度对Al2O3:Ce^3+薄膜发光性能的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 廖国进; 巴德纯; 闻立时; 刘斯明; 阎绍峰 |
刊名 | 功能材料
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出版日期 | 2007 |
卷号 | 38.0期号:006页码:872-875 |
关键词 | 三氧化二铝薄膜 磁控溅射 掺杂浓度 光致 发光 Ce |
ISSN号 | 1001-9731 |
其他题名 | Effect of Ce^3+ concentration on luminescent properties of Al2O3:Ce^3 films |
英文摘要 | 应用中频反应磁控溅射技术在载玻片上制备掺铈的Al2O3薄膜,在固定的电源功率下,氩气流量为43ml/min,氧流量为10ml/min,室温下溅射时间为90min的条件下,通过控制薄膜中的Ce抖离子的掺杂量来改变薄膜的发光性能。通过X光能量散射谱(EDS)和光致发光测量,得到发光强度和发光峰位对薄膜中的Ce^3+浓度有强烈的依赖关系,并且分析了产生这种关系的原因;对发光激发谱分析表明,薄膜发光是源于薄膜中形成的氯化铈集合体中的Ce^3+。Al2O3:Ce^3+发光膜可应用于需要蓝光发射的平板显示领域。 |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:2816047 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/150226] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 廖国进,巴德纯,闻立时,等. 掺杂浓度对Al2O3:Ce^3+薄膜发光性能的影响[J]. 功能材料,2007,38.0(006):872-875. |
APA | 廖国进,巴德纯,闻立时,刘斯明,&阎绍峰.(2007).掺杂浓度对Al2O3:Ce^3+薄膜发光性能的影响.功能材料,38.0(006),872-875. |
MLA | 廖国进,et al."掺杂浓度对Al2O3:Ce^3+薄膜发光性能的影响".功能材料 38.0.006(2007):872-875. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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