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低辐射薄膜TiO2—Ag—TiO2—SiO的纳米尺度显微结构

文献类型:期刊论文

作者詹倩; 于荣; 贺连龙; 李斗星; 郭晓楠
刊名金属学报
出版日期2001
卷号37.0期号:004页码:337-339
关键词低辐射薄膜 微观结构 HREM 纳米束分析
ISSN号0412-1961
英文摘要成功地制务了TiO2-Ag-TiO2-SiO超薄多层膜的截面样品,并对其微观结构进行TEM,HREM及纳米束EDS分析,结果表明,薄膜各层厚度均匀,界面明锐、光滑。Ag层由纳米晶组成,而TiO2和SiO层为非晶。Ag在膜层中没有扩散或聚团,这也正是保证整个薄膜性能指标的一一个重要因素。
语种中文
CSCD记录号CSCD:675805
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/151341]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
作者单位中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
詹倩,于荣,贺连龙,等. 低辐射薄膜TiO2—Ag—TiO2—SiO的纳米尺度显微结构[J]. 金属学报,2001,37.0(004):337-339.
APA 詹倩,于荣,贺连龙,李斗星,&郭晓楠.(2001).低辐射薄膜TiO2—Ag—TiO2—SiO的纳米尺度显微结构.金属学报,37.0(004),337-339.
MLA 詹倩,et al."低辐射薄膜TiO2—Ag—TiO2—SiO的纳米尺度显微结构".金属学报 37.0.004(2001):337-339.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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