光激发发荧光谱术分析Co-Cr-Al（Y）纳米涂层的氧化II.Al_2O_3膜应力测量与分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 袁晓; 王福会 |
| 刊名 | 金属学报
 |
| 出版日期 | 2003 |
| 卷号 | 39期号:10页码:1060-1064 |
| 关键词 | 光激发荧光谱术 Al_2O_3残余应力 磁控溅射Co-Cr-Al（Y） 纳米涂层 |
| ISSN号 | 0412-1961 |
| 其他题名 | Photo-stimulated luminescence spectroscopic analysis of the oxidation of magnetron sputtered Co-Cr-Al(Y) nanocoatings II. Residual Stresses and Mechanical Behavior of Al_2O_3 Scale |
| 英文摘要 | 用光激发荧光谱术分析测量磁控溅射Co-Cr-Al（Y）纳米涂层经1000，1100和1200 ℃氧化后Al_2O_3膜中的残余应力，获得如下结果：（1）残余应力随氧化温度升高而增大；（2）暂态氧化出现的区域应力值明显低于无暂态氧化的区域；（3）两种涂层1000 ℃下形成的氧化膜中的残余应力相差不大，但在1100和1200 ℃下，含Y涂层形成的氧化膜中的残余应力比不含Y中的高。对实验结果进行了分析。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:1267047 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/151802]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 袁晓,王福会. 光激发发荧光谱术分析Co-Cr-Al（Y）纳米涂层的氧化II.Al_2O_3膜应力测量与分析[J]. 金属学报,2003,39(10):1060-1064. |
| APA | 袁晓,&王福会.(2003).光激发发荧光谱术分析Co-Cr-Al（Y）纳米涂层的氧化II.Al_2O_3膜应力测量与分析.金属学报,39(10),1060-1064. |
| MLA | 袁晓,et al."光激发发荧光谱术分析Co-Cr-Al（Y）纳米涂层的氧化II.Al_2O_3膜应力测量与分析".金属学报 39.10(2003):1060-1064. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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