混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO2光催化剂薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张文杰; 李汝愿; 李瑛; 朱圣龙; 王福会 |
| 刊名 | 真空科学与技术学报
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| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 30.0期号:003页码:288-292 |
| 关键词 | TiO2 光催化 磁控溅射 Fe掺杂 |
| ISSN号 | 1672-7126 |
| 其他题名 | Growth of Fe-Doped TiO2 Photo-Catalyst Films by Reactive Magnetron Co-Sputtering |
| 英文摘要 | 采用直流磁控反应混合靶共溅射的方法，在玻璃基体上制备出了Fe掺杂的TiO2膜，优化了沉积条件以制备出均匀透明的TiO2膜。通过调整固定在Ti靶上的Fe片面积可以控制膜中Fe的浓度。随着Fe浓度的增加，膜的表面形貌从平整变得粗糙。Fe含量低的膜为锐钛矿晶体结构，在Fe含量高的膜中出现了Fe的氧化物。在纯TiO2膜中钛以Ti4＋的形式存在，而在含Fe的膜中钛的氧化态下降，出现了混合价态。Fe的存在导致膜的光谱吸收边沿向可见光谱方向移动。Fe掺杂浓度低的膜比纯TiO2膜表现出了更强的光催化活性。另一方面，过多n的掺杂导致TiO2膜的光催化活性快速下降。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:3937569 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/152937]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张文杰,李汝愿,李瑛,等. 混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO2光催化剂薄膜[J]. 真空科学与技术学报,2010,30.0(003):288-292. |
| APA | 张文杰,李汝愿,李瑛,朱圣龙,&王福会.(2010).混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO2光催化剂薄膜.真空科学与技术学报,30.0(003),288-292. |
| MLA | 张文杰,et al."混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO2光催化剂薄膜".真空科学与技术学报 30.0.003(2010):288-292. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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