沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张文杰; 朱圣龙; 李瑛; 王福会; 何红波 |
| 刊名 | 功能材料
 |
| 出版日期 | 2008 |
| 卷号 | 39.0期号:011页码:1785-1788 |
| 关键词 | 磁控反应溅射 TiO2薄膜 光催化 沉积时间 |
| ISSN号 | 1001-9731 |
| 其他题名 | Influence of deposition time on TiO2 photocatalyst films deposited by dc reactive magnetron sputtering |
| 英文摘要 | 应用直流磁控反应溅射法，在玻璃基体上制备了具有光催化活性的TiO2薄膜。TiO2薄膜的厚度随沉积时间的增加而均匀增长。基体温度则在溅射的最初1h裉快上升到110℃，溅射7h基体温度不超过130℃。溅射2h得到的是非晶态TiO2薄膜，而溅射3～7h制备的薄膜为锐钛矿型结构。非晶态和小晶粒TiO2薄膜的紫外-可见透射光谱谱带边沿与结晶较好的TiO2薄膜相比有明显的蓝移，薄膜的透射率随沉积时间的增加而下降。钛以四价钛的形式存在于TiO2薄膜中。TiO2薄膜的光催化活性随沉积时间和薄膜厚度的增加而有较大提高。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:3459147 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/154464]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张文杰,朱圣龙,李瑛,等. 沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响[J]. 功能材料,2008,39.0(011):1785-1788. |
| APA | 张文杰,朱圣龙,李瑛,王福会,&何红波.(2008).沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响.功能材料,39.0(011),1785-1788. |
| MLA | 张文杰,et al."沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响".功能材料 39.0.011(2008):1785-1788. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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