用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──001取向铜单晶疲劳位错结构的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 宫波; 陈道伦; 苏会和; 王中光 |
| 刊名 | 金属学报
 |
| 出版日期 | 1997 |
| 卷号 | 33期号:6页码:561-565 |
| 关键词 | 扫描电镜 电子通道衬度技术 铜单晶体 位错结构 |
| ISSN号 | 0412-1961 |
| 英文摘要 | 用扫描电镜（SEM）的电了通道讨度（ECC）技术研究了001取向铜单晶中的疲劳位错结构结果表明，SEMECC技术不仅可以真实地、全面地显示疲劳位错组态，而且还揭示了表面出现的宏观形变带与位错结构的对应关系. |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:382740 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/156642]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宫波,陈道伦,苏会和,等. 用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──001取向铜单晶疲劳位错结构的研究[J]. 金属学报,1997,33(6):561-565. |
| APA | 宫波,陈道伦,苏会和,&王中光.(1997).用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──001取向铜单晶疲劳位错结构的研究.金属学报,33(6),561-565. |
| MLA | 宫波,et al."用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──001取向铜单晶疲劳位错结构的研究".金属学报 33.6(1997):561-565. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。