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外延生长的Gd掺杂CeO2薄膜内位错的透射电子显微学表征

文献类型:期刊论文

作者宋克鹏; 杜奎; 叶恒强
刊名电子显微学报
出版日期2015
卷号34.0期号:1.0页码:14-17
关键词固体氧化物燃料电池 外延生长 GDC 位错 高分辨透射电子显微像
ISSN号1000-6281
其他题名Transmission electron microscopy characterization of dislocations in epitaxial gadolinia-doped ceria films
英文摘要利用脉冲激光沉积( pulsed laser depositon, PLD)方法在YSZ( Y2 O3 stabilised zirconia)单晶衬底上外延生长了Gd掺杂的CeO2薄膜(gadolinium doped CeO2,GDC)。利用透射电子显微镜(TEM)对GDC/YSZ界面以及GDC薄膜内部的位错结构进行了表征。实验发现,界面处存在周期性分布的失配位错,界面失配主要通过失配位错释放。 GDC薄膜内部存在两种不同的位错,其中一种为纯刃型位错,另外一种为混合型位错。
语种中文
CSCD记录号CSCD:5360395
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/157269]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
作者单位中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
宋克鹏,杜奎,叶恒强. 外延生长的Gd掺杂CeO2薄膜内位错的透射电子显微学表征[J]. 电子显微学报,2015,34.0(1.0):14-17.
APA 宋克鹏,杜奎,&叶恒强.(2015).外延生长的Gd掺杂CeO2薄膜内位错的透射电子显微学表征.电子显微学报,34.0(1.0),14-17.
MLA 宋克鹏,et al."外延生长的Gd掺杂CeO2薄膜内位错的透射电子显微学表征".电子显微学报 34.0.1.0(2015):14-17.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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