低表面活性剂浓度下有序介孔SiO2的制备及性能
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王金忠2; 赵岩1; 王明光2; 张彩碚2 |
| 刊名 | 东北大学学报：自然科学版
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| 出版日期 | 2002 |
| 卷号 | 23.0期号:009页码:911-914 |
| 关键词 | 介孔SiO2 表面活性剂 模板剂 分子自组装 有序性 六方结构 介孔骨架 低浓度 二氧化硅 介孔材料 |
| ISSN号 | 1005-3026 |
| 其他题名 | Synthesis and Properties of Ordered Mesoporous Silica in a Low Surfactant Condition |
| 英文摘要 | 在碱性条件下，采用低浓度和阳离子表面活性剂，利用表面添生剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用，在溶液中形成分子自组装体，从而形成有序排列的介孔SiO2材料，水热和室温碱性条件下，表面活性剂与硅源的粒子数比为0．06：1。由HRTEM分析，小角度XRD分析，TG－DTA分析及FT－IR分析等研究表明：在较低的表面活性剂浓度下降，通过分子自组装体做模板剂，最终反应物经一定工艺处理，可形成六方结构介孔SiO2。水热条件下使分子的作用增强，提高介孔骨架中硅原子的聚集度，由于铝原子的引入取代部分子原子导致晶格增大，并使有序介孔结构保持完好，介孔SiO2孔道大小3－4nm，六方结构排列，介孔结构保持完整的最佳煅烧温度为500℃。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:986312 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/157493]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 1.中国科学院金属研究所 2.东北大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王金忠,赵岩,王明光,等. 低表面活性剂浓度下有序介孔SiO2的制备及性能[J]. 东北大学学报：自然科学版,2002,23.0(009):911-914. |
| APA | 王金忠,赵岩,王明光,&张彩碚.(2002).低表面活性剂浓度下有序介孔SiO2的制备及性能.东北大学学报：自然科学版,23.0(009),911-914. |
| MLA | 王金忠,et al."低表面活性剂浓度下有序介孔SiO2的制备及性能".东北大学学报：自然科学版 23.0.009(2002):911-914. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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