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透明导电氧化物ZnO:Al(ZAO)薄膜的研究

文献类型:期刊论文

作者裴志亮; 谭明晖; 陈猛; 孙超; 黄荣芳; 闻立时
刊名金属学报
出版日期2000
卷号36.0期号:1.0页码:72-76
关键词ZnO:Al薄膜 电阻空间分布 光电性能 导电薄膜
ISSN号0412-1961
英文摘要用磁控反应溅射法制备了ZnO:Al薄膜,研究了薄膜方块电阻空间分布的均匀性及微观形貌,并对ZnO:Al薄膜表面各元素的化学状态和深度分布进行了XPS和AES分析,同时也讨论了薄膜的光学电学性能。
语种中文
CSCD记录号CSCD:675485
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/158147]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
作者单位中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
裴志亮,谭明晖,陈猛,等. 透明导电氧化物ZnO:Al(ZAO)薄膜的研究[J]. 金属学报,2000,36.0(1.0):72-76.
APA 裴志亮,谭明晖,陈猛,孙超,黄荣芳,&闻立时.(2000).透明导电氧化物ZnO:Al(ZAO)薄膜的研究.金属学报,36.0(1.0),72-76.
MLA 裴志亮,et al."透明导电氧化物ZnO:Al(ZAO)薄膜的研究".金属学报 36.0.1.0(2000):72-76.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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