退火温度对纳米TiO2薄膜微结构的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 胡晓云 ; 李婷 ; 张德恺 ; 白晋涛 ; 侯洵 |
| 刊名 | 电子元件与材料
 |
| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 24期号:7页码:12-16 |
| ISSN号 | 1001-2028 |
| 通讯作者 | 胡晓云 |
| 学科主题 | 电子技术 |
| 公开日期 | 2010-01-12 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/6788]  |
| 专题 | 西安光学精密机械研究所_瞬态光学技术国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 胡晓云,李婷,张德恺,等. 退火温度对纳米TiO2薄膜微结构的影响[J]. 电子元件与材料,2005,24(7):12-16. |
| APA | 胡晓云,李婷,张德恺,白晋涛,&侯洵.(2005).退火温度对纳米TiO2薄膜微结构的影响.电子元件与材料,24(7),12-16. |
| MLA | 胡晓云,et al."退火温度对纳米TiO2薄膜微结构的影响".电子元件与材料 24.7(2005):12-16. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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