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颗粒可控分散技术在Ce02抛光粉生产中的应用研究

文献类型:期刊论文

作者王奇2; 杨敏1; 陈运法3
刊名中国稀土学报
出版日期2011
卷号29期号:6页码:724
关键词可控分散 高能球磨 喷雾干燥 氧化铈
ISSN号1000-4343
英文摘要通过高能湿法球磨与低温喷雾干燥联用技术对传统沉淀法氧化铈抛光粉后处理工艺进行改进,从而实现生产过程中颗粒的可控分散。通过XRD确定产品晶型,采用SEM, BET和激光粒度仪对改进前后颗粒度变化进行了分析。将该产品与进口产品在ZF_7和K9玻片抛光生产线上比较使用,良品率高于进口产品。结果表明该颗粒可控分散技术有效降低了颗粒的团聚程度,提高了颗粒均匀性,改善了抛光性能。
语种英语
源URL[http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/46165]  
专题中国科学院过程工程研究所
作者单位1.北京科技大学
2.中国科学院国家纳米科学中心
3.中国科学院过程工程研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王奇,杨敏,陈运法. 颗粒可控分散技术在Ce02抛光粉生产中的应用研究[J]. 中国稀土学报,2011,29(6):724.
APA 王奇,杨敏,&陈运法.(2011).颗粒可控分散技术在Ce02抛光粉生产中的应用研究.中国稀土学报,29(6),724.
MLA 王奇,et al."颗粒可控分散技术在Ce02抛光粉生产中的应用研究".中国稀土学报 29.6(2011):724.

入库方式: OAI收割

来源:过程工程研究所

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