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残余应力对介质高反膜面型影响的研究

文献类型:期刊论文

作者李阳2; 徐均琪2; 刘政1; 苏俊宏2
刊名真空科学与技术学报
出版日期2021-05-15
卷号41期号:05页码:484-490
关键词薄膜应力 大口径 ERT 面型
ISSN号1672-7126
产权排序2
英文摘要

使用有限元分析方法对介质激光高反镜镀膜前后的元件面型变化及膜层应力分布进行研究,仿真结果表明:残余应力和热应力都呈层状分布,基底应力从下到镀膜面由拉应力变为压应力,应力引起面型变化呈环状分布。对于熔石英基底,当厚径比小于1∶20时,重力引起的变形不可忽略。当熔石英(φ=200 mm,d=2 mm)表面为由重力引起的曲面且膜系为G│(HL)~(10)H│A的TiO_2-SiO_2组合时,镀膜元件面型变化减小1.45μm,修正了理想平面镀膜仿真的不足,为大口径微变形镀膜元件的制备提供指导。

语种中文
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/95094]  
专题先进光学元件试制中心
通讯作者李阳
作者单位1.西安光学精密机械研究所先进光学制造技术联合实验室
2.西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
李阳,徐均琪,刘政,等. 残余应力对介质高反膜面型影响的研究[J]. 真空科学与技术学报,2021,41(05):484-490.
APA 李阳,徐均琪,刘政,&苏俊宏.(2021).残余应力对介质高反膜面型影响的研究.真空科学与技术学报,41(05),484-490.
MLA 李阳,et al."残余应力对介质高反膜面型影响的研究".真空科学与技术学报 41.05(2021):484-490.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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