一种高精度叠层光栅单元及制备方法
文献类型：专利
| 作者 | 徐广州; 卢笛; 于基睿; 阮萍; 贺应红; 吕娟; 郭松; 杨建峰
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| 发表日期 | 2021-10-15 |
| 专利号 | CN202010442233.2 |
| 著作权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 本发明提供高精度叠层光栅单元及制备方法，解决现有光栅单元的光栅叠层精度较低，难以满足±3μm叠层精度要求的问题。其中光栅单元包括自上而下依次叠放的多个单片光栅，每个单片光栅上均设有2个矩形定位孔，单片光栅的定位孔重叠，矩形定位孔长度方向平行于单片光栅狭缝长度方向；2个矩形定位孔位于狭缝外围区域，并呈轴对称设置，对称轴经过单片光栅中心并与狭缝垂直。制备方法包括步骤：1)采用激光加工工艺对光栅片进行光栅狭缝加工，同时以与光栅狭缝相同加工工艺在光栅片上加工矩形定位孔；2)采用与步骤1)相同的工艺条件加工多个光栅片，获得多个单片光栅；3)以单片光栅的矩形定位孔为机械基准进行光栅叠层，获得光栅单元。 |
| 公开日期 | 2020-09-11 |
| 申请日期 | 2020-05-22 |
| 语种 | 中文 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/95351]  |
| 专题 | 西安光学精密机械研究所_月球与深空探测技术研究室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 徐广州,卢笛,于基睿,等. 一种高精度叠层光栅单元及制备方法. CN202010442233.2. 2021-10-15. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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