用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构
文献类型:期刊论文
作者 | 于海生 ; 黄宇营 ; 魏向军 ; 姜政 ; 王建强 ; 顾颂琦 ; 张硕 ; 高星 |
刊名 | 核技术
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出版日期 | 2011 |
期号 | 7页码:489-493 |
关键词 | 掠入射 X射线吸收精细结构(XAFS) Ti/Ni/Ti薄膜 X射线反射(XRR) |
ISSN号 | 0253-3219 |
中文摘要 | 在上海光源BL14W1线站建立了掠入射XAFS(GI-XAFS)方法,利用GI-XAFS方法并结合X射线反射(XRR)研究了直流磁控溅射方法生长在W/Si基底上的Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构随Ni层厚度的变化。结果表明,随着薄膜厚度的增加,Ni/Ti界面层间的相互扩散有所增加,Ni层厚度为5 nm时,Ni/Ti界面层间的扩散厚度为2 nm左右;Ni层厚度为1 nm时,由于无序度较大,Ni-Ni配位和Ni-Ti配位的键长有所收缩;随着薄膜Ni层厚度的减小,无序度逐渐增加,Ni-Ti配位增加,Ni-Ni配位减少。 |
收录类别 | CNKI |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2013-09-11 |
源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/12655] ![]() |
专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2011-2017年 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 于海生,黄宇营,魏向军,等. 用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构[J]. 核技术,2011(7):489-493. |
APA | 于海生.,黄宇营.,魏向军.,姜政.,王建强.,...&高星.(2011).用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构.核技术(7),489-493. |
MLA | 于海生,et al."用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构".核技术 .7(2011):489-493. |
入库方式: OAI收割
来源:上海应用物理研究所
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