酸性条件下的CdSe波片抛光工艺研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 魏顺勇2; 张志勇1 ; 杨辉2; 安辛友2; 张敏2; 曾体贤2
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| 刊名 | 人工晶体学报
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| 出版日期 | 2018 |
| 卷号 | 047期号:006页码:1280 |
| ISSN号 | 1000-985X |
| 英文摘要 | 利用自然解理和X射线衍射仪对气相法制备的大尺寸CdSe单晶定向,并沿光轴方向切割出20 mm×20 mm×3 mm的CdSe波片初胚。采用酸性化学机械抛光方法对波片初胚进行表面处理,将5%溴甲醇与W0.25（粒度为0.25μm）的金刚石悬浮液按1∶10的体积比混合并用盐酸调节抛光液的pH值。结果表明：当抛光液pH=5时,样品表面平整划痕较少,粗糙度约为0.8 nm,平行度公差f=0.00275 mm,样品的红外透过率在2-20μm波段均达到65%-70%,其吸收系数在0.01-0.06 cm^-1之间。 |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://ir.bao.ac.cn/handle/114a11/43119]  |
| 专题 | 中国科学院国家天文台 |
| 作者单位 | 1.中国科学院国家天文台 2.西华师范大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 魏顺勇,张志勇,杨辉,等. 酸性条件下的CdSe波片抛光工艺研究[J]. 人工晶体学报,2018,047(006):1280. |
| APA | 魏顺勇,张志勇,杨辉,安辛友,张敏,&曾体贤.(2018).酸性条件下的CdSe波片抛光工艺研究.人工晶体学报,047(006),1280. |
| MLA | 魏顺勇,et al."酸性条件下的CdSe波片抛光工艺研究".人工晶体学报 047.006(2018):1280. |
入库方式： OAI收割
来源：国家天文台
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