球形微米和纳米级SiO_2生产新工艺
文献类型：会议论文
| 作者 | 纪崇甲
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| 出版日期 | 2003 |
| 会议名称 | 全国第三届纳米材料和技术应用会议 |
| 会议日期 | 2003 |
| 会议地点 | 江苏南京 |
| 页码 | 76-79 |
| 通讯作者 | 纪崇甲 |
| 中文摘要 | 用直流电弧等离子体技术,熔化和汽化SiO_2经骤冷和集尘,制取球形微米和纳米级SiO_2,可应用于电子封装材料。 |
| 会议录 | 纳米材料和技术应用进展——全国第三届纳米材料和技术应用会议论文集（上卷）.中国材料研究学会,2003,p.76-79
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| 会议录出版者 | 中国材料研究学会 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/34706]  |
| 专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
| 通讯作者 | 纪崇甲 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 纪崇甲. 球形微米和纳米级SiO_2生产新工艺[C]. 见:全国第三届纳米材料和技术应用会议. 江苏南京. 2003. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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