一种高精度激光雕刻方法
文献类型：专利
| 作者 | 李明; 安永刚; 田新锋
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| 发表日期 | 2020-12-30 |
| 专利号 | CN202011643176.0 |
| 著作权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 本发明涉及一种激光雕刻方法，尤其为一种高精度激光雕刻方法。解决传统激光雕刻过程存在的加工深度不均匀及激光器出光、关光响应时间对零件尺寸的影响问题。本发明在路径规划时预先考虑到载物平台的加减速时间以及激光器、IO模块的响应时间，在原有的路径上增加了减速轨迹以及出、关光响应轨迹，因此根据更新后的路径加工出的产品深度均匀性好，不存在由于脉冲重叠率太高而导致起点和终点加工深度较深、加工质量差的问题，同时考虑到激光器和IO模块的响应时间提高了尺寸加工精度。该方法特别适用于不规则图形雕刻工艺。 |
| 公开日期 | 2021-05-07 |
| 申请日期 | 2020-12-30 |
| 语种 | 中文 |
| 状态 | 申请中 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/95537]  |
| 专题 | 西安光学精密机械研究所_瞬态光学技术国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李明,安永刚,田新锋. 一种高精度激光雕刻方法. CN202011643176.0. 2020-12-30. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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