一种激光光学元件高反射率测量方法及装置
文献类型：专利
| 作者 | 达争尚 ; 段亚轩; 李铭; 袁索超; 李红光; 陈永权; 董晓娜
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| 发表日期 | 2021-10-15 |
| 专利号 | CN202011366027.4 |
| 著作权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 为了解决传统激光光学元件高反射率的测量方法测量精度不高的问题，本发明提出一种激光光学元件高反射率测量方法及装置。本发明基于双光路干涉原理，采用空测+实测进行高反射率元件的反射率精确测量，两干涉光路的分光比例大，先获取空测的条纹对比度，然后在光路中加入待测高反射镜进行实测，获得实测的条纹对比度，通过干涉条纹对比度的变化计算待测高反射镜的反射率值，可以实现待测高反射镜反射率的溯源，实现高反射率的高精度测量。 |
| 公开日期 | 2021-03-23 |
| 申请日期 | 2020-11-29 |
| 语种 | 中文 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/95500]  |
| 专题 | 西安光学精密机械研究所_先进光学仪器研究室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 达争尚,段亚轩,李铭,等. 一种激光光学元件高反射率测量方法及装置. CN202011366027.4. 2021-10-15. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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