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一种实现大光程差、高稳定性的相干色散光谱成像方法及装置

文献类型:专利

作者管守鑫; 魏儒义; 刘学斌; 张志军; 狄腊梅; 陈莎莎
发表日期2020-12-30
专利号CN202011644615.X
著作权人中国科学院西安光学精密机械研究所
国家中国
文献子类发明专利
产权排序1
英文摘要本发明属于光谱成像技术领域,涉及一种实现大光程差、高稳定性的相干色散光谱成像方法及装置。克服基于传统迈克尔逊型干涉仪相干色散光谱成像存在的对环境要求严苛及透过率和灵敏度较低的问题。利用分束器将目标光束分成强度比为50:50的两路光束;利用光程调节元件用于改变两路光束的光程,形成干涉条纹;利用汇聚透镜将干涉光汇聚成像到狭缝处;利用色散器件将干涉条纹按照波长色散;利用光电探测器接收色散器件色散后的干涉条纹信息。成像装置相比于传统相干色散光谱成像仪,具有能量利用率高、灵敏度高、结构紧凑及稳定性高的优点。
公开日期2021-05-25
申请日期2020-12-30
语种中文
状态申请中
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/95538]  
专题西安光学精密机械研究所_光学影像学习与分析中心
推荐引用方式
GB/T 7714
管守鑫,魏儒义,刘学斌,等. 一种实现大光程差、高稳定性的相干色散光谱成像方法及装置. CN202011644615.X. 2020-12-30.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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