在半导体芯片的制造过程中，光刻机是最关键的设备。光刻机作为技术最复杂的设备之一，集合最尖端的光、机、电、算技术为一体。对准技术作为光刻三大核心技术之一，在光刻生产中起着至关重要的作用。提高光刻对准的精度能够直接提高套刻精度，从而提高产品质量，同时提高光刻对准的速度和效率也能够提高产品的生产率。
接近接触式光刻系统作为芯片生产制造中的重要设备之一，对光刻对准技术提出了更高的要求。目前接近接触式光刻系统主要依靠特定的对准标记进行视频图像对准，然而对准标记的种类越来越多，部分光刻过程已不再设计专门的对准标记，而是直接利用光刻的图案或者硅片的轮廓充当对准标记进行对准。
本文基于光刻对准技术研究现状，结合接近接触式光刻基于光刻图案或者硅片轮廓进行对准的需求，提出了一种应用于接近接触式光刻系统的，基于几何图案的视频图像对准技术的对准算法，能够采用任意图形对准标记进行光刻对准，也能够基于光刻图案、硅片轮廓进行对准，工艺适应性强，应用范围广泛。
在模拟仿真对准算法的基础上，进一步在接近接触式光刻系统上进行实验，验证了对准算法的可行性，重复精度可达到亚微米，满足对准精度要求。使用不同对准标记进行一系列实验，验证了对准算法应用于任意图形的可行性。