Study on Durability Improvement of Cs-Te Photocathode by Means of Alkali Halide Protective Films
文献类型：会议论文
| 作者 | K. Ezawa; R. Fukuoka; Y. Koshiba; T. Tamba; M. Washio |
| 出版日期 | 2021 |
| 会议日期 | 2021 |
| 会议地点 | Brazil |
| 会议录 | Proceedings of the 12th International Particle Accelerator Conference
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| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/291073]  |
| 专题 | 学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_IPAC |
| 作者单位 | Waseda University, Tokyo, Japan |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | K. Ezawa,R. Fukuoka,Y. Koshiba,et al. Study on Durability Improvement of Cs-Te Photocathode by Means of Alkali Halide Protective Films[C]. 见:. Brazil. 2021. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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