Mo/Si原子高能量沉积中反射和再溅射的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 孙诗壮; 金春水 ; 喻波; 郭涛; 姚舜; 李春; 邓文渊
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| 刊名 | 光学学报
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| 出版日期 | 2020-06-10 |
| 卷号 | 40期号:11页码:46-53 |
| 关键词 | 原子与分子物理学 分子动力学 反射 再溅射 Mo/Si原子 角度分布 能量分布 |
| 英文摘要 | 使用分子动力学方法计算了Mo、Si原子发生反射和再溅射的概率,以及原子的反射、再溅射角度和能量分布。考虑了四种碰撞:Mo原子与Mo基底碰撞、Mo原子与Si基底碰撞、Si原子与Si基底碰撞、Si原子与Mo基底碰撞。模拟发现,当沉积原子传递给基底的能量降低时,发生反射的概率增加,但是发生再溅射的概率降低。此外,入射角度对反射概率、再溅射概率的影响与沉积原子和基底原子的种类有关;然而,入射能量越高越容易发生反射、再溅射。最后,进行了磁控溅射实验,在具有不同倾斜角度的基底上制备了Mo/Si多层膜样片,实验结论验证了仿真结果。研究结果可以用于模拟磁控溅射镀膜过程,优化镀膜工艺。 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63991]  |
| 专题 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 作者单位 | 1.中国科学院大学 2.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙诗壮,金春水,喻波,等. Mo/Si原子高能量沉积中反射和再溅射的研究[J]. 光学学报,2020,40(11):46-53. |
| APA | 孙诗壮.,金春水.,喻波.,郭涛.,姚舜.,...&邓文渊.(2020).Mo/Si原子高能量沉积中反射和再溅射的研究.光学学报,40(11),46-53. |
| MLA | 孙诗壮,et al."Mo/Si原子高能量沉积中反射和再溅射的研究".光学学报 40.11(2020):46-53. |
入库方式： OAI收割
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