大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘剑 ; 蔡黎明; 成贤锴; 顾国刚; 于涌
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| 刊名 | 中国光学
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| 出版日期 | 2019 |
| 卷号 | 12期号:03页码:663-669 |
| 关键词 | 高精度 陶瓷导轨 超精研抛 |
| 英文摘要 | 为了提高氧化铝陶瓷导轨超精密研抛加工的工作效率,分析了研抛压力、研抛速度以及磨料添加间隔等工艺参数与研磨抛光效率的关系。首先,根据氧化铝陶瓷导轨的特性及物理参数,确定研磨抛光盘以及磨料的选型。然后以高精度平面平晶作为检测工具,平晶与导轨表面形成干涉条纹,利用条纹的数量定量表征研抛效果。最终得到氧化铝陶瓷导轨的最佳工艺参数:每个研抛压力应该控制在40 N;研抛线速度为45 m/min;研磨剂的添加时间为30 min。在同等时间内,应用此套工艺参数可以达到更高的面型精度。 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63648]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘剑,蔡黎明,成贤锴,等. 大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究[J]. 中国光学,2019,12(03):663-669. |
| APA | 刘剑,蔡黎明,成贤锴,顾国刚,&于涌.(2019).大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究.中国光学,12(03),663-669. |
| MLA | 刘剑,et al."大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究".中国光学 12.03(2019):663-669. |
入库方式： OAI收割
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