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电弧离子镀沉积富碳的TiC薄膜研究

文献类型:会议论文

作者宋贵宏 ; 邹友生 ; 陈立佳 ; 李锋 ; 王启民 ; 宫骏 ; 孙超
出版日期2004-11-01
会议名称2004年中国材料研讨会
会议日期2004-11-01
会议地点北京
关键词复合膜层 碳化钛薄膜 离子镀 类金刚石膜
中文摘要本文研究了电弧离子镀沉积的富碳TiC薄膜.结果表明,在腔体内H<,2>和C<,2>H<,2>气体流量比为1/2和1/1时,两沉积膜层的C和Ti的原子百分比远远超过1/1,分别为7.42/22.5和85.77/14.23.X射线衍射谱显示,两膜层含有TiC相.在H<,2>和C<,2>H<,2>气体流量比为1/2时,膜层中的TiC相各衍射峰峰高较低,半高宽加大,这表明膜层中TiC相的晶粒(颗粒)细小.当气体流量比为1/1时,TiC相的各衍射峰很漫散,这表明TiC相可能成为非晶,其原因可能是由于混合气体中氢等离子体的浓度加大而碳的等离子体浓度减少造成的.两膜层的Raman谱显示,其与普通石墨靶沉积类金刚石膜的Raman谱相似,该Raman谱的Lorentzian分解表明,D峰和G峰的位置分别在1347cm<'-1>和1585cm<'-1>附近,与沉积时气体流量比关系不大,但两峰的强度比I<,D>/I<,G>值明显较大,这表明膜层中sp<'3>键含量较少.H<,2>和C<,2>H<,2>气体流量比由1/2变到1/1,则沉积膜的I<,D>/I<,G>值由1.8变到2.0,同时其显微硬度由21.4GPa变到17.5GPa.膜层的硬度变化与I<,D>/I<,G>值变化符合正常规律.这表明沉积的富碳TiC膜层,含有细小或呈非晶态TiC相,并有可能构成由细小TiC颗粒和类金刚石结构组成的复合膜层.
会议主办者中国材料研究学会
会议录2004年材料科学与工程新进展论文集
会议录出版者冶金工业出版社
会议录出版地北京
语种中文
源URL[http://210.72.142.130/handle/321006/70309]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
宋贵宏,邹友生,陈立佳,等. 电弧离子镀沉积富碳的TiC薄膜研究[C]. 见:2004年中国材料研讨会. 北京. 2004-11-01.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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