脉冲偏压电弧离子镀的发展现状及前瞻
文献类型：会议论文
| 作者 | 闻立时 ; 黄荣芳 |
| 出版日期 | 2005-07-14 |
| 会议名称 | 2005全国真空冶金与表面工程学术会议 |
| 会议日期 | 2005-07-14 |
| 会议地点 | 沈阳 |
| 关键词 | 电弧离子镀 脉冲偏压 气相沉积镀膜 |
| 中文摘要 | 本文致力于集中探讨脉冲偏压电弧离子镀技术各种表观行为下的深层本质和作用机制，并在此基础上论述其发展走向和取得新进展的可能性。 |
| 会议主办者 | 中国真空学会 |
| 会议录 | 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集
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| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70317]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闻立时,黄荣芳. 脉冲偏压电弧离子镀的发展现状及前瞻[C]. 见:2005全国真空冶金与表面工程学术会议. 沈阳. 2005-07-14. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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