氮化铝薄膜发光性能的研究进展
文献类型：会议论文
| 作者 | 佟洪波 ; 巴德纯 ; 肖金泉 ; 闻立时 |
| 出版日期 | 2005-07-14 |
| 会议名称 | 2005全国真空冶金与表面工程学术会议 |
| 会议日期 | 2005-07-14 |
| 会议地点 | 沈阳 |
| 关键词 | 薄膜 氮化铝 电致发光 发光性能 |
| 中文摘要 | 本文介绍了AlN薄膜物理性质及制备方法；综述了AlN薄膜作为薄膜电致发光(TFEL)器件发光层的研究现状；对AlN薄膜的发光性能的应用前景做了展望。 |
| 会议主办者 | 中国真空学会 |
| 会议录 | 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集
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| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70343]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 佟洪波,巴德纯,肖金泉,等. 氮化铝薄膜发光性能的研究进展[C]. 见:2005全国真空冶金与表面工程学术会议. 沈阳. 2005-07-14. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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