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磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究

文献类型:会议论文

作者郑华 ; 刘实 ; 于洪波 ; 朱跃进 ; 王隆保 ; 施力群 ; 刘超卓
出版日期2004-06-15
会议名称中国核学会核材料专业分会2004年学术交流会
会议日期2004-06-15
会议地点上海
关键词磁控溅射 Ti膜 热解吸 合金膜
中文摘要本文采用He/Ar复合气氛下磁控溅射方法,在Ti、TiZrYAl和TiMoYAl等3种薄膜中引入浓度(氦-金属比)高达0.19的氦.引入的氦在膜层内沿深度均匀分布,并主要存在于直径为2~5nm的高压He泡内.热解吸实验表明,在相同He含量下,TiHe膜中He的解吸峰温度与氚化钛中衰变产生的3He的解吸峰温度基本一致.与纯钛相比,合金膜中氦的热解吸谱宽化明显,表明He在合金膜内的捕获形式更为复杂.
会议主办者中国核学会
会议录原子能科学技术
语种中文
源URL[http://210.72.142.130/handle/321006/70361]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
郑华,刘实,于洪波,等. 磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究[C]. 见:中国核学会核材料专业分会2004年学术交流会. 上海. 2004-06-15.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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