磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究
文献类型:会议论文
作者 | 郑华 ; 刘实 ; 于洪波 ; 朱跃进 ; 王隆保 ; 施力群 ; 刘超卓 |
出版日期 | 2004-06-15 |
会议名称 | 中国核学会核材料专业分会2004年学术交流会 |
会议日期 | 2004-06-15 |
会议地点 | 上海 |
关键词 | 磁控溅射 Ti膜 氦 热解吸 合金膜 |
中文摘要 | 本文采用He/Ar复合气氛下磁控溅射方法,在Ti、TiZrYAl和TiMoYAl等3种薄膜中引入浓度(氦-金属比)高达0.19的氦.引入的氦在膜层内沿深度均匀分布,并主要存在于直径为2~5nm的高压He泡内.热解吸实验表明,在相同He含量下,TiHe膜中He的解吸峰温度与氚化钛中衰变产生的3He的解吸峰温度基本一致.与纯钛相比,合金膜中氦的热解吸谱宽化明显,表明He在合金膜内的捕获形式更为复杂. |
会议主办者 | 中国核学会 |
会议录 | 原子能科学技术
![]() |
语种 | 中文 |
源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70361] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郑华,刘实,于洪波,等. 磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究[C]. 见:中国核学会核材料专业分会2004年学术交流会. 上海. 2004-06-15. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。