电弧离子镀氮化铬涂层的沉积工艺研究
文献类型：会议论文
| 作者 | 李明升 ; 冯长杰 ; 王福会 |
| 出版日期 | 2006-07-24 |
| 会议名称 | 2006年全国功能材料学术年会 |
| 会议日期 | 2006-07-24 |
| 会议地点 | 敦煌 |
| 关键词 | 电弧离子镀 氮化铬 N2分压 双极脉冲偏压 |
| 中文摘要 | 氮化铬陶瓷涂层具有低的磨擦系数、高的硬度、良好的热稳定性和抗腐蚀性,被认为是最有希望的TiN替代材料之一.本研究利用脉冲偏压电弧离子镀设备,以不同的沉积工艺在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体上沉积了氮化铬陶瓷涂层,研究了基体上脉冲偏压的施加及沉积过程中反应气体N2分压对氮化铬涂层的表面熔滴、沉积速率及相结构的影响规律.探讨了偏压及N2分压在涂层沉积中的作用机制. |
| 会议主办者 | 中国仪器仪表学会 |
| 会议录 | 功能材料
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| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70435]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李明升,冯长杰,王福会. 电弧离子镀氮化铬涂层的沉积工艺研究[C]. 见:2006年全国功能材料学术年会. 敦煌. 2006-07-24. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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