外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究
文献类型：会议论文
| 作者 | 张小波 ; 裴志亮 ; 肖金泉 ; 宫骏 ; 孙超 |
| 出版日期 | 2006-09 |
| 会议名称 | 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会 |
| 会议日期 | 2006-09 |
| 会议地点 | 北京 |
| 关键词 | 透明导电薄膜 直流磁控溅射法 电磁线圈 低温沉积 电阻率 |
| 中文摘要 | 采用外加电磁线圈直流磁控溅射法低温制备了ZnO:Al透明导电薄膜,研究了不同沉积参数对AZO薄膜电学性能的影响.通过改变外加同轴线圈磁场来改变基片处等离子体密度,并用Langmuir探针进行了测量.研究结果表明:低温沉积(＜100℃)时,增加基片区域等离子体密度可以显著改善AZO薄膜的电阻率及其空间均匀性,同时也改善了表面形貌,并对其机理进行了分析。 |
| 会议主办者 | 中国材料研究学会 |
| 会议录 | 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会
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| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70497]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张小波,裴志亮,肖金泉,等. 外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究[C]. 见:2006北京国际材料周暨中国材料研讨会. 北京. 2006-09. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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