空气氧化选择性刻蚀金属性单壁碳纳米管
文献类型：会议论文
| 作者 | 于冰 ; 侯鹏翔 ; 刘畅 ; 成会明 |
| 出版日期 | 2009-10 |
| 会议名称 | 第九届全国新型炭材料学术研讨会 |
| 会议日期 | 2009-10 |
| 会议地点 | 厦门 |
| 关键词 | 单壁碳纳米管 选择性刻蚀 空气氧化 化学气相沉积法 纳米电子器件 |
| 中文摘要 | 我们报道一种简单有效选择性刻蚀金属性单壁碳纳米管的方法。该方法为在空气中高温氧化浮动催化化学气相沉积法制备的单壁碳纳米管薄膜。经氧化处理后，金属性和小直径的单壁碳纳米管基本被刻蚀掉，剩余产物为直径大于1.3 nm的半导体性单壁碳纳米管。这种尺度的半导体性单壁碳纳米管适用于构建纳米电子器件。 |
| 会议主办者 | 中国科学院山西煤炭化学研究所 |
| 会议录 | 第九届全国新型炭材料学术研讨会论文集
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| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70850]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 于冰,侯鹏翔,刘畅,等. 空气氧化选择性刻蚀金属性单壁碳纳米管[C]. 见:第九届全国新型炭材料学术研讨会. 厦门. 2009-10. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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