微晶化对纯铝点蚀行为的影响
文献类型:会议论文
作者 | 魏立艳 ; 孟国哲 ; 张涛 ; 邵亚薇 ; 王福会 |
出版日期 | 2008-07 |
会议名称 | 2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会 |
会议日期 | 2008-07 |
会议地点 | 沈阳 |
关键词 | 纯铝材料 金属点蚀 微晶化膜 腐蚀试验 |
中文摘要 | 本文通过磁控溅射技术在玻璃基体上制备了晶粒尺寸在400 nm左右微晶铝膜,利用动电位极化曲线及电化学噪声技术研究了微晶铝在酸性氯化钠溶液的腐蚀行为。结果表明,微晶铝自腐蚀电位升高,自腐蚀电流明显减小,维钝电流、点蚀击破电位显著升高;微晶化对纯铝点蚀行为有两方面的影响,一方面点蚀孕育速度增大,另一方面点蚀生长速度降低,导致微晶化后纯铝的耐点蚀性能增强。 |
会议主办者 | 中国腐蚀与防护学会 |
会议录 | 2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会论文集
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语种 | 中文 |
源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70872] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 魏立艳,孟国哲,张涛,等. 微晶化对纯铝点蚀行为的影响[C]. 见:2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会. 沈阳. 2008-07. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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