电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅰ-O2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响
文献类型：会议论文
| 作者 | 陈崇木 ; 崔宇 ; 张涛 ; 邵亚薇 ; 孟国哲 ; 王福会 ; 李晓刚 ; 董超芳 |
| 出版日期 | 2008-07 |
| 会议名称 | 2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会 |
| 会议日期 | 2008-07 |
| 会议地点 | 沈阳 |
| 关键词 | 纯镁材料 电化学腐蚀 液膜厚度 电极过程 |
| 中文摘要 | 本文用电化学法研究了纯镁在未除氧和除氧的下不同厚度薄液膜下的腐蚀行为。结果表明：薄液膜下纯镁腐蚀的阴极过程受氢还原控制；液膜厚度的减小使其阴极过程和阳极过程都受到抑制,对阳极过程影响很大；氧气的存在对阳极过程的影响很大,并使得纯镁表面易于生成表面膜,表面膜更加连续和致密。 |
| 会议主办者 | 中国腐蚀与防护学会 |
| 会议录 | 2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会论文集
 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70881]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈崇木,崔宇,张涛,等. 电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅰ-O2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响[C]. 见:2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会. 沈阳. 2008-07. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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