原位制备纳米结构的电子束诱发沉积方法
文献类型：会议论文
| 作者 | 刘志权 |
| 出版日期 | 2010-10-08 |
| 会议名称 | 2010年全国电子显微学会议暨第八届海峡两岸电子显微学研讨会 |
| 会议日期 | 2010-10-08 |
| 会议地点 | 杭州 |
| 关键词 | 原位制备 纳米结构 电子束诱发沉积方法 |
| 中文摘要 | @@随着材料精细结构的研究需求和相关理论和制造技术的发展，电镜内电子束斑的尺寸越来越小，已经能够实现纳米束斑下的原子尺度表征分析。由于电子束较小的束斑尺寸和可操作性，类似于聚焦离子柬，被看作是一种具有良好发展前景的纳米结构制造技术。其中，电子束诱导沉积(Electron beaminduced deposition，EBID)足近二十年来发展较为迅速的一种聚焦电子柬制造方法，可以实现电镜内纳米结构的原位制备。其原理是利用电镜的微小束斑，与样品室的含金属成分气体相互作用，从而分解出金属原子沉积形成纳米结构。 |
| 会议主办者 | 中国物理学会 |
| 会议录 | 2010年全国电子显微学会议暨第八届海峡两岸电子显微学研讨会论文集
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| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70988]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘志权. 原位制备纳米结构的电子束诱发沉积方法[C]. 见:2010年全国电子显微学会议暨第八届海峡两岸电子显微学研讨会. 杭州. 2010-10-08. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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