光学合成孔径成像技术的uv覆盖与孔径排列研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 林燮佳; 吴桢 |
| 刊名 | 应用光学
 |
| 出版日期 | 2012 |
| 卷号 | 33.0期号:1.0页码:30 |
| 关键词 | 长基线 干涉阵排列 uv覆盖 蒙特卡洛 光学合成孔径 |
| ISSN号 | 1002-2082 |
| 英文摘要 | 从地平坐标系和时角坐标系出发,运用坐标旋转公式推导出光学合成孔径成像技术中干涉阵排列和uv覆盖之间的几何关系式,以特定观测天区为例,在南京模拟三孔径Y型阵,并运用蒙特卡洛法对2个目标函数分别优化,将其优化结果进行比较,找到比较适合该文的目标函数。 |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://ir.bao.ac.cn/handle/114a11/60340]  |
| 专题 | 中国科学院国家天文台 |
| 作者单位 | 中国科学院国家天文台 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 林燮佳,吴桢. 光学合成孔径成像技术的uv覆盖与孔径排列研究[J]. 应用光学,2012,33.0(1.0):30. |
| APA | 林燮佳,&吴桢.(2012).光学合成孔径成像技术的uv覆盖与孔径排列研究.应用光学,33.0(1.0),30. |
| MLA | 林燮佳,et al."光学合成孔径成像技术的uv覆盖与孔径排列研究".应用光学 33.0.1.0(2012):30. |
入库方式： OAI收割
来源：国家天文台
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