Formation and elimination mechanism of thermal blistering in Al2O3/Si system
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhao, Shuai; Yuan, Guodong; Zhang, Di; Xu, Pengfei; Li, Guozheng; Han, Weihua |
| 刊名 | JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE
 |
| 出版日期 | 2021 |
| 卷号 | 56期号:31页码:17478-17489 |
| 公开日期 | 2021 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/31027]  |
| 专题 | 半导体研究所_半导体超晶格国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhao, Shuai; Yuan, Guodong; Zhang, Di; Xu, Pengfei; Li, Guozheng; Han, Weihua. Formation and elimination mechanism of thermal blistering in Al2O3/Si system[J]. JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE,2021,56(31):17478-17489. |
| APA | Zhao, Shuai; Yuan, Guodong; Zhang, Di; Xu, Pengfei; Li, Guozheng; Han, Weihua.(2021).Formation and elimination mechanism of thermal blistering in Al2O3/Si system.JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE,56(31),17478-17489. |
| MLA | Zhao, Shuai; Yuan, Guodong; Zhang, Di; Xu, Pengfei; Li, Guozheng; Han, Weihua."Formation and elimination mechanism of thermal blistering in Al2O3/Si system".JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE 56.31(2021):17478-17489. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。