表面活性剂调控制备光催化活性氧化钛层柱蒙脱石材料研究
文献类型：会议论文
| 作者 | 余江 ; 闫树芳 ; 刘会洲 ; 孙体昌 |
| 出版日期 | 2005 |
| 会议名称 | 第四届全国环境催化与环境材料学术会议 |
| 会议日期 | 2005-12 |
| 会议地点 | 中国北京 |
| 关键词 | TiO2 柱撑 蒙脱石 CTAB 结构调控 |
| 页码 | 4 |
| 中文摘要 | 以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为表面活性剂,优化水热合成条件,调控制备大层间距的氧化铁层柱蒙脱石光催化活性材料。考察了实验过程中反应条件以及CTAB用量对钛基蒙脱石层间变化的影响。比较了钛基蒙脱石经500℃热处理前后层间纳米TiO2晶粒大小及形态的变化．结果表明,表面活性剂CTAB对水合钛基柱撑剂在蒙脱石钠米层间域的“生长”过程起到调控的作用．应用拉曼光谱和XRD光谱等对所得材料进行了结构分析,讨论了表面活性剂调控钛基柱撑蒙脱石的可能机理,为合成制备集吸附与光催化降解于一体的新型高效水处理材料和应用提供了新途径。 |
| 会议录 | 第四届全国环境催化与环境材料学术会议论文集
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| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/2578]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 余江,闫树芳,刘会洲,等. 表面活性剂调控制备光催化活性氧化钛层柱蒙脱石材料研究[C]. 见:第四届全国环境催化与环境材料学术会议. 中国北京. 2005-12. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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