一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法
文献类型：专利
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| 作者 | 莫高明; 苗玉龙; 钟希强; 何流; 陈海俊; 裴学良; 杨建行 |
| 发表日期 | 2018-05-04 |
| 著作权人 | 杨建行 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 申请日期 | 2016-01-12 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/27467]  |
| 专题 | 专利成果_专利 |
| 作者单位 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 莫高明,苗玉龙,钟希强,等. 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法. 2018-05-04. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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