一种沉积有复合薄膜的烧结钕铁硼磁体及其制备方法
文献类型：专利
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| 作者 | 宋振纶; 丁雪峰; 胡方勤; 杨丽景; 姜建军; 郑必长; 武秉晖 |
| 发表日期 | 2020-06-16 |
| 著作权人 | 胡方勤 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 申请日期 | 2017-12-22 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/28024]  |
| 专题 | 专利成果_专利 |
| 作者单位 | 1.包头希迪瑞科技有限公司 2.中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋振纶,丁雪峰,胡方勤,等. 一种沉积有复合薄膜的烧结钕铁硼磁体及其制备方法, 一种沉积有复合薄膜的烧结钕铁硼磁体及其制备方法, 一种沉积有复合薄膜的烧结钕铁硼磁体及其制备方法, 一种沉积有复合薄膜的烧结钕铁硼磁体及其制备方法, 一种沉积有复合薄膜的烧结钕铁硼磁体及其制备方法, 一种沉积有复合薄膜的烧结钕铁硼磁体及其制备方法, 一种沉积有复合薄膜的烧结钕铁硼磁体及其制备方法, 一种沉积有复合薄膜的烧结钕铁硼磁体及其制备方法. 2020-06-16. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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