一种黑硅钝化膜、其制备方法及应用
文献类型:专利
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作者 | 叶继春; 廖明墩; 曾俞衡; 闫宝杰; 高平奇; 王丹; 童慧; 全成; 张志 |
发表日期 | 2021-04-30 |
著作权人 | 杨熹 |
文献子类 | 发明专利 |
申请日期 | 2018-05-22 |
源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/28183] ![]() |
专题 | 专利成果_专利 |
作者单位 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 叶继春,廖明墩,曾俞衡,等. 一种黑硅钝化膜、其制备方法及应用, 一种黑硅钝化膜、其制备方法及应用, 一种黑硅钝化膜、其制备方法及应用, 一种黑硅钝化膜、其制备方法及应用, 一种黑硅钝化膜、其制备方法及应用, 一种黑硅钝化膜、其制备方法及应用, 一种黑硅钝化膜、其制备方法及应用, 一种黑硅钝化膜、其制备方法及应用. 2021-04-30. |
入库方式: OAI收割
来源:宁波材料技术与工程研究所
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