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高温与电子束辐照共同作用下SiO_x材料的结构演化研究

文献类型:期刊论文

作者梁芮,陈国新,黄钦,王楠,唐发俊,张志佳,卢焕明,康建立
刊名电子显微学报
出版日期2021
卷号40期号:4页码:367-372
英文摘要本文利用透射电子显微镜原位加热技术研究了高温下SiO_x材料的结构演化行为,并通过EELS谱分析了SiO_x材料结构的化学组成变化。研究结果表明:在高温作用下,电子束辐照对SiO_x材料的相分离过程起到了促进作用;高密度电子束辐照是SiO_x材料中产生孔状结构的主要原因;SiO_x材料在高温和电子束辐照作用下,会快速形成纳米硅镶嵌在多孔二氧化硅薄膜中的特殊结构。
源URL[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/22550]  
专题2021专题_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
梁芮,陈国新,黄钦,王楠,唐发俊,张志佳,卢焕明,康建立. 高温与电子束辐照共同作用下SiO_x材料的结构演化研究[J]. 电子显微学报,2021,40(4):367-372.
APA 梁芮,陈国新,黄钦,王楠,唐发俊,张志佳,卢焕明,康建立.(2021).高温与电子束辐照共同作用下SiO_x材料的结构演化研究.电子显微学报,40(4),367-372.
MLA 梁芮,陈国新,黄钦,王楠,唐发俊,张志佳,卢焕明,康建立."高温与电子束辐照共同作用下SiO_x材料的结构演化研究".电子显微学报 40.4(2021):367-372.

入库方式: OAI收割

来源:宁波材料技术与工程研究所

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