管式PECVD制备多晶硅钝化接触结构的方法
文献类型：专利
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| 作者 | 曾俞衡; 闫宝杰; 叶继春; 廖明墩 |
| 发表日期 | 2020-11-17 |
| 著作权人 | 杨熹 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 申请日期 | 2019-01-02 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/28332]  |
| 专题 | 专利成果_专利 |
| 作者单位 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 曾俞衡,闫宝杰,叶继春,等. 管式PECVD制备多晶硅钝化接触结构的方法, 管式PECVD制备多晶硅钝化接触结构的方法, 管式PECVD制备多晶硅钝化接触结构的方法, 管式PECVD制备多晶硅钝化接触结构的方法, 管式PECVD制备多晶硅钝化接触结构的方法, 管式PECVD制备多晶硅钝化接触结构的方法, 管式PECVD制备多晶硅钝化接触结构的方法, 管式PECVD制备多晶硅钝化接触结构的方法. 2020-11-17. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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