Differences in etching characteristics of TMAH and KOH on preparing inverted pyramids for silicon solar cells
文献类型:期刊论文
作者 | Fan, Yujie ; Han, Peide ; Liang, Peng ; Xing, Yupeng ; Ye, Zhou ; Hu, Shaoxu |
刊名 | applied surface science
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出版日期 | 2013 |
卷号 | 264页码:761-766 |
学科主题 | 光电子学 |
收录类别 | SCI |
语种 | 英语 |
公开日期 | 2013-10-10 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/24442] ![]() |
专题 | 半导体研究所_集成光电子学国家重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Fan, Yujie,Han, Peide,Liang, Peng,et al. Differences in etching characteristics of TMAH and KOH on preparing inverted pyramids for silicon solar cells[J]. applied surface science,2013,264:761-766. |
APA | Fan, Yujie,Han, Peide,Liang, Peng,Xing, Yupeng,Ye, Zhou,&Hu, Shaoxu.(2013).Differences in etching characteristics of TMAH and KOH on preparing inverted pyramids for silicon solar cells.applied surface science,264,761-766. |
MLA | Fan, Yujie,et al."Differences in etching characteristics of TMAH and KOH on preparing inverted pyramids for silicon solar cells".applied surface science 264(2013):761-766. |
入库方式: OAI收割
来源:半导体研究所
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