Injector Design Towards ERL-Based EUV-FEL for Lithography
文献类型:会议论文
作者 | O.A. Tanaka; T. Miyajima; N. Nakamura; T. Tanikawa |
出版日期 | 2022 |
会议日期 | 2022 |
会议地点 | Thailand |
会议录 | Proceedings of the 13th International Particle Accelerator Conference |
源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/296393] |
专题 | 学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_IPAC |
作者单位 | KEK, Ibaraki, Japan |
推荐引用方式 GB/T 7714 | O.A. Tanaka,T. Miyajima,N. Nakamura,et al. Injector Design Towards ERL-Based EUV-FEL for Lithography[C]. 见:. Thailand. 2022. |
入库方式: OAI收割
来源:高能物理研究所
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