一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用
文献类型：专利
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| 作者 | 任吉中 ; 张立秋 ; 李晖 ; 赵丹 ; 冯世超 |
| 专利国别 | 待填写 |
| 专利号 | CN201210547993.5 |
| 专利类型 | 专利 |
| 关键词 | 物理化学 |
| 权利人 | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 中文摘要 | 物理化学 |
| 是否PCT专利 | 实审 |
| 学科主题 | 张晨 |
| 公开日期 | 2012-12-17 |
| 语种 | 2013-5-8 |
| 资助信息 | 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用，本发明选用含有极性醚氧基团的新型HQDEA-DMMDA聚醚酰亚胺为基质膜材料，选择气相二氧化硅粒子为填料，通过超声方法将二氧化硅均匀分散在基质膜溶液中制备气体分离膜，该混合基质膜具有较好的气体渗透性，并对H2/CH4,H2/N2,CO2/CH4,CO2/H2以及O2/N2等分离体系保持较高的分离性能。 |
| 专利证书号 | CN201210547993.5 |
| 专利申请号 | CN |
| 专利代理 | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 源URL | [http://159.226.238.44/handle/321008/118793]  |
| 专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 任吉中,张立秋,李晖,等. 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用, 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用. CN201210547993.5. |
入库方式： OAI收割
来源：大连化学物理研究所
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