二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀)
文献类型:期刊论文
作者 | 石倩倩1,2; 王江2; 程光华2![]() |
刊名 | 光子学报
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出版日期 | 2022-10 |
卷号 | 51期号:10 |
关键词 | 二氧化钒 制备技术 薄膜 金属-绝缘体相变 晶型结构 |
ISSN号 | 1004-4213 |
其他题名 | Preparation Technology and Application of Vanadium Dioxide Thin Films(Invited) |
产权排序 | 1 |
英文摘要 | 二氧化钒具有从金属相到绝缘体相发生可逆相变的特性,在68℃,分子结构从单斜结构转换成金红石结构,同时伴随着光学、电学和热学性质的快速突变,使得二氧化钒被广泛应用于热光调控、光学防护、红外伪装、离子电池和化学传感等领域。本文总结了二氧化钒薄膜新颖的制备技术、研究现状以及各种技术的优缺点,分析了应力、掺杂、缺陷等因素对二氧化钒相变特性的显著影响,归纳了二氧化钒的相变机理和支持相关相变机理的证据,列举了二氧化钒在不同热门领域中的应用,并对二氧化钒的发展方向和应用前景进行了总结和展望。 |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:7351350 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/96380] ![]() |
专题 | 西安光学精密机械研究所_瞬态光学技术国家重点实验室 |
通讯作者 | 程光华 |
作者单位 | 1.中国科学院西安光学精密机械研究所 2.西北工业大学光电与智能研究院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 石倩倩,王江,程光华. 二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀)[J]. 光子学报,2022,51(10). |
APA | 石倩倩,王江,&程光华.(2022).二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀).光子学报,51(10). |
MLA | 石倩倩,et al."二氧化钒薄膜的制备技术及应用进展(特邀)".光子学报 51.10(2022). |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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